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CVD（Chemical Vapor Deposition）和MOCVD（Metal-Organic Chemical Vapor Deposition）是兩種常用的化學(xué)氣相沉積技術(shù)，用于制備薄膜、涂層和納米材料等。
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氫氣是許多實(shí)驗(yàn)室實(shí)驗(yàn)和研究所必需的氣體之一。它可以用于氣相色譜儀、質(zhì)譜儀和其他實(shí)驗(yàn)室儀器的載氣。氫氣發(fā)生器通過電解水的方法生成高純度的氫氣，滿足實(shí)驗(yàn)室的需求。
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氫氣發(fā)生器的工作原理基于鈀擴(kuò)散法純化氫的原理。鈀原子的密集堆積形成了一個(gè)微小的結(jié)構(gòu)，只有能夠離解的氫原子才能通過鈀管表面。其他元素的原子和分子由于直徑大于鈀原子密集堆積的間隙，無法通過。
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高純氫氣發(fā)生器用于電解的電池采用鈦基材料和纖維增強(qiáng)膜。這種結(jié)構(gòu)使電解槽即使在連續(xù)運(yùn)行的過程中也能保證很好的可靠性。纖維增強(qiáng)膜能夠促進(jìn)氫的電解，而不需要任何添加劑。
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高純氫氣發(fā)生器用于將粗氫精制成高純度的氫氣，并可配備多臺氣相色譜和庫侖儀，實(shí)現(xiàn)不間斷連續(xù)工作和自動化程序控制。最終得到的氫氣純度高達(dá)99.9999%。
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Hydrogen-300S/500S/1000S高純氫氣發(fā)生器具備自動水位控制功能，當(dāng)缺水時(shí)，能自動停機(jī)并補(bǔ)水。在Hydrogen-500S型號中，當(dāng)水量低于15%時(shí)，能由外置水箱自動補(bǔ)水，無需停機(jī)加水，從而保護(hù)電解池，延長使用壽命。
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高純氫氣發(fā)生器采用單片計(jì)算機(jī)控制，全自動工作，恒壓、恒流，氫氣流量可根據(jù)用量實(shí)現(xiàn)全自動調(diào)節(jié)，使用時(shí)只需打開電源開關(guān)即可產(chǎn)氫?？蛇B續(xù)使用，也可間斷使用，產(chǎn)氫量穩(wěn)定不衰減。不需要干燥劑（如變色硅膠、分子篩等），免維護(hù)。
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HYDROGEN-30L/50L氫氣發(fā)生器采用固態(tài)電解質(zhì)（PEM）法產(chǎn)生氫氣。它使用超純凈水作為原料，以固體聚合物為電解質(zhì)，貴金屬做電極，并配備有效的除濕裝置。這樣可以降低原始濕度，使氫氣的純度保持穩(wěn)定。
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