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資料CVD,MOCVD專用氫氣發(fā)生器
時(shí)間:2021/7/28 閱讀:2429
  CVD,MOCVD專用氫氣發(fā)生器由超純水機(jī)制取二級(jí)水,并儲(chǔ)存至水箱備用。氫氣發(fā)生器缺水時(shí),自動(dòng)供給至氫氣發(fā)生器。多臺(tái)氫氣發(fā)生器可串聯(lián)使用,通過(guò)串聯(lián)控制線由一臺(tái)發(fā)生器控制其他發(fā)生器,實(shí)現(xiàn)產(chǎn)氣均勻分配。(以兩臺(tái)設(shè)備為例控制圖如下)

 


 
  CVD,MOCVD專用氫氣發(fā)生器產(chǎn)品特點(diǎn):
 
  1.配備純水系統(tǒng),完成自來(lái)水進(jìn)水完成大流量的氫氣制備。
 
  2.儀器的全部工作過(guò)程均由程序控制,自動(dòng)恒壓、恒流,通過(guò)串聯(lián)控制線,可實(shí)現(xiàn)多組并聯(lián)使用。
 
  3.安全可靠:配有安全裝置,電解超純水制氫,無(wú)腐蝕、無(wú)污染,配有壓力控制,缺水自動(dòng)監(jiān)控,漏氣自動(dòng)檢測(cè)。
 
  4.操作方便使用時(shí)只需打開電源開關(guān)即可產(chǎn)氫,使用后無(wú)需泄壓,直接關(guān)閉電源即可。可連續(xù)使用,也可間斷使用,產(chǎn)氫量穩(wěn)定不衰減。
 
  5.使用固態(tài)電解質(zhì)(PEM)法產(chǎn)生氫氣,以超純凈水原料,以固體聚合物為電解質(zhì),貴金屬做電極有效的除濕裝置,降低了原始濕度,純度穩(wěn)定。

 


 
  CVD,MOCVD專用氫氣發(fā)生器技術(shù)參數(shù):
 
  1.氫氣純度: 99.9999-99.99999%
 
  2.氫氣流量:1L-17L/min
 
  3.輸出壓力:0-80psi(約0.5MPa)
 
  4.壓力穩(wěn)定性:< 0.001MPa
 
  5.供電電源:220V±10% 50HZ
 
  6.消耗功率:8kw(HYDROGEN-17L)
 
  7.純水需求:>2MΩ&1L/h
 
  8.氫氣容積:<20L(HYDROGEN-17L)
 
  9.環(huán)境溫度:1-40℃
 
  10.相對(duì)濕度:<85%
 
  11.海拔高度:<2000米
 
  12.外形尺寸:80x90x100(WxDxH cm)(HYDROGEN-17L)
 
  13.凈重:約200kg(HYDROGEN-17L)

 

CVD,MOCVD專用氫氣發(fā)生器

 


 
  MOCVD是一種新型的氣相外延生長(zhǎng)技術(shù),它是在氣相外延生長(zhǎng)(VPE)的基礎(chǔ)上發(fā)展起來(lái)的,是以Ⅲ族、Ⅱ族元素的有機(jī)化合物和V、Ⅵ族元素的氫化物等作為晶體生長(zhǎng)源材料,以熱分解反應(yīng)方式在襯底上進(jìn)行氣相外延,生長(zhǎng)各種Ⅲ-V族、Ⅱ-Ⅵ族化合物半導(dǎo)體以及它們的多元固溶體的薄層單晶材料。
 
  氫氣發(fā)生器在MOCVD中的廣泛應(yīng)用:
 
  在MOCVD中,氫氣可以擔(dān)當(dāng)載氣,將III(II)金屬有機(jī)物和V(VI)族氫化物以及摻雜源攜帶運(yùn)輸?shù)椒磻?yīng)室內(nèi),為化學(xué)沉積反應(yīng)和薄膜生長(zhǎng)提供基礎(chǔ),MOCVD要求氫氣純度≥99.999%(≥5N),進(jìn)口壓力為4-7bar,而氫氣發(fā)生器所產(chǎn)氫氣可以符合這一領(lǐng)域的用氣需求。同時(shí),氫氣純度穩(wěn)定不變,減少了氫氣純度波動(dòng)對(duì)設(shè)備的影響。
 
  除此之外,設(shè)備操作便捷,保障氫氣供應(yīng)連續(xù)不間斷,用戶無(wú)需擔(dān)心氫氣用完,也無(wú)需和高壓氣體鋼瓶接觸,發(fā)生器自動(dòng)運(yùn)行,無(wú)需額外人工操作;發(fā)生器自動(dòng)偵測(cè)自身工作狀態(tài)和錯(cuò)誤,一旦偵測(cè)異常,發(fā)生器報(bào)警。
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